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【設備】環(huán)保噴漆房品牌大廠家

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產(chǎn)品參數(shù)
產(chǎn)品價格98/臺
發(fā)貨期限1天
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光催化是常溫深度反應技術。光催化氧化可在室溫下將水、空氣和土壤中有機污染物完全氧化成無害的產(chǎn)物,而傳統(tǒng)的高溫焚燒技術則需要在極高的溫度下才可將污染物摧毀,即使用常規(guī)的催化、氧化方法亦需要高溫,燃燒法用于處理高濃度Voc與有惡臭的化合物很有效,其原理是用過量的空氣使這些雜質(zhì)燃燒,大多數(shù)生成二氧化碳和水蒸氣,可以排放到大氣中。但當處理含氯和含硫的有機化合物時,燃燒生成產(chǎn)物中HCl或SO2,需要對燃燒后氣體進一步處理設備。 從理論上講,只要半導體吸收的光能不小于其帶隙能,就足以激發(fā)產(chǎn)生電子和空穴,該半導體就有可能用作光催化劑,常見的單一化合物光催化劑多為金屬氧化物或硫化物,如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。這些催化劑各自對特定反應有突出優(yōu)點,具體研究中可根據(jù)需要選用,如CdS半導體帶隙能較小,跟太陽光譜中的近紫外光段有較好的匹配性能,可以很好地利用自然光能,但它容易發(fā)生光腐蝕,使用壽命有限。相對而言,Ti02的綜合性能較好,是廣泛使用和研究的單一化合物光催化劑。

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VOC廢氣處理設備 反應塔內(nèi)裝填特制的固態(tài)填料,填料內(nèi)部復配多介質(zhì)催化劑。當惡臭氣體在引風機的作用下穿過填料層,與通過特制噴嘴呈發(fā)散霧狀噴出的液相復配氧化劑在固相填料表面充分接觸,并在多介質(zhì)催化劑的催化作用下,惡臭氣體中的污染因子被充分分解。適用范圍:適用范圍廣,尤其適用于處理大氣量、中高濃度的廢氣,對疏水性污染物質(zhì)有很好的去除率。優(yōu)點:占地小,投資低,運行成本低;管理方便,即開即用。缺點:耐沖擊負荷,不易污染物濃度及溫度變化影響,需消耗一定量的藥劑。 低溫等離子體是繼固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)之后的物質(zhì)第四態(tài),當外加電壓達到氣體的著火電壓時,氣體分子被擊穿,產(chǎn)生包括電子、各種離子、原子和自由基在內(nèi)的混合體。放電過程中雖然電子溫度很高,但重粒子溫度很低,整個體系呈現(xiàn)低溫狀態(tài),所以稱為低溫等離子體。低溫等離子體降解污染物是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用,使污染物分子在極短的時間內(nèi)發(fā)生分解,并發(fā)生后續(xù)的各種反應以達到降解污染物的目的。




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