光氧廢氣處理設(shè)備氣體分子被擊穿，產(chǎn)生包括電子、各種離子、原子和自由基在內(nèi)的混合體。放電過程中雖然電子溫度很高，但重粒子溫度很低，整個體系呈現(xiàn)低溫狀態(tài)，所以稱為低溫等離子體。低溫等離子體降解污染物是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用，使污染物分子在極短的時間內(nèi)發(fā)生分解，并發(fā)生后續(xù)的各種反應(yīng)以達(dá)到降解污染物的目的。 光氧廢氣處理設(shè)備 特點：① 采用單級或多級串聯(lián)洗滌，對污染物去除徹底，去除效率高。② 處理高濃度惡臭廢氣具有明顯優(yōu)勢，運行穩(wěn)定。③ 具有啟動速度快、可間歇運行、耐沖擊負(fù)荷強、受溫度影響小、運行穩(wěn)定等特點。④ 自動化程度高，占地面積小,化學(xué)洗滌除臭設(shè)備適用于污水處理廠、制藥廠、化工廠等具有堿性或酸性且濃度比較高的尾氣治理?；钚蕴砍粼O(shè)備采取切線出風(fēng)、環(huán)狀過濾、中間進(jìn)風(fēng)、上不加料、下部卸料的結(jié)構(gòu)，克服了傳統(tǒng)的活性炭過濾器過濾阻力大、面積小、占地面積大、設(shè)備投資高、更換活性炭困難等缺陷，使活性炭過濾設(shè)備結(jié)構(gòu)設(shè)計近乎于完美。

VOC廢氣處理設(shè)備 反應(yīng)塔內(nèi)裝填特制的固態(tài)填料，填料內(nèi)部復(fù)配多介質(zhì)催化劑。當(dāng)惡臭氣體在引風(fēng)機的作用下穿過填料層，與通過特制噴嘴呈發(fā)散霧狀噴出的液相復(fù)配氧化劑在固相填料表面充分接觸，并在多介質(zhì)催化劑的催化作用下，惡臭氣體中的污染因子被充分分解。適用范圍：適用范圍廣，尤其適用于處理大氣量、中高濃度的廢氣，對疏水性污染物質(zhì)有很好的去除率。優(yōu)點：占地小，投資低，運行成本低；管理方便，即開即用。缺點：耐沖擊負(fù)荷，不易污染物濃度及溫度變化影響，需消耗一定量的藥劑。 低溫等離子體是繼固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)之后的物質(zhì)第四態(tài)，當(dāng)外加電壓達(dá)到氣體的著火電壓時，氣體分子被擊穿，產(chǎn)生包括電子、各種離子、原子和自由基在內(nèi)的混合體。放電過程中雖然電子溫度很高，但重粒子溫度很低，整個體系呈現(xiàn)低溫狀態(tài)，所以稱為低溫等離子體。低溫等離子體降解污染物是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用，使污染物分子在極短的時間內(nèi)發(fā)生分解，并發(fā)生后續(xù)的各種反應(yīng)以達(dá)到降解污染物的目的。