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越浩節(jié)能設備(安順市分公司)是經(jīng)貴州安順工商局批準成立的專業(yè)從事 無塵打磨房生產(chǎn)和銷售的大型廠家。面對 無塵打磨房市場日益激烈的競爭,公司員工將一起創(chuàng)造、接受挑戰(zhàn),在誠信、敬業(yè)、奉獻的精神指導下,將公司推上一個更高的層次!
廢氣經(jīng)阻火器過濾后,通過主進閥、旁通閥的同步反向切換調節(jié)進入熱交換器,熱交換器的熱氣升高一定溫度后進入預熱室、經(jīng)過預熱室的加熱使廢氣升溫到催化起燃溫度(250度)然后進入催化反應床,在催化劑的活性作用下,有機廢氣進行氧化反應生成無害的水和二氧化碳,并放出一定的熱量。反應后的高溫氣體再次進入熱交換器,經(jīng)換熱后,后以較低的溫度經(jīng)引風機排入大氣。催化燃燒是借助催化劑在低溫下(200-400度)實現(xiàn)對有機物的完全氧化,因此,操作簡單、、凈化效率高,在有機廢氣特別是回收價值大的有機廢氣凈化等領域應用廣泛。 不同的排放場合和不同的廢氣,有不同的催化燃燒廢氣處理工藝流程。環(huán)保 催化燃燒性能特點1、用優(yōu)質金屬鉑、鈀鍍在蜂窩陶瓷載體上作為催化劑、凈化效率高達97-99%,設備壽命長、且可再生、氣體流暢阻力??;2、設施完備:阻火除塵器、泄壓孔、超溫報警等保護設施全;3、預熱15-30分鐘全功率加熱。工作時只消耗見機功率即可,當廢氣濃度較低時,自動間歇補償加熱;4、余熱可以返回烘道用來烘干工作,降低原烘道中消耗功率;也可供工廠其它方面熱能回用 催化燃燒處理注意事項:1、廢氣成分中,不能含有下列物質;有高粘性的油脂類。如磷、鉍、砷、銻、汞、鉛、錫;高濃度的粉塵;2、設備選型時,注明廢氣的成分、濃度及出口溫度;3、設備安裝場所無腐蝕性氣體,并有良好的防雨措施;4、設備所需電源為:三相交流380V頻率50Hz; 催化燃燒適用范圍:1、用于有機溶劑的凈化處理如:苯類、醇類、酯類、酚類、醚類、烷類等混合性有機廢氣;2、適用于漆包線、機械、電機、化工、儀表、汽車、發(fā)動機、塑料、電器等行業(yè)的有機廢氣凈化;3、適用于各種烘道、印刷油墨、電機絕緣處理等烘干流水線等。
活性炭除臭設備是等體積傳統(tǒng)活性炭過濾設備過濾面積的2~4倍,阻力只有傳統(tǒng)的1/2~1/3。環(huán)形活性炭凈化裝置由于采用切線出風,其方向不受場地條件限制可任意擺放,抽風機和設備對接極易,排放管可直接固定于設備上,系統(tǒng)整齊合理, 廢氣的產(chǎn)生部位比較多,并且分散在車間中,因此在處理廢氣之前必須先把廢氣收集起來,所以需要集氣系統(tǒng)對其進行收集后統(tǒng)一進行處理, 在車間機器產(chǎn)生廢氣的具體部位加上密閉系統(tǒng),然后安裝相對應的管道,利用風機作用將廢氣抽出;另外,一方面在車間四周的地面部位安裝一定量的鼓風機,將車間內散布的廢氣由下而上鼓氣,另一方面在車間頂部安裝抽風機,使抽氣量大于鼓風量,從而車間內產(chǎn)生一定的低負壓,保證了車間內廢氣不會像外擴散。抽出的廢氣統(tǒng)一由管道外送進行處理。
光氧廢氣處理設備氣體分子被擊穿,產(chǎn)生包括電子、各種離子、原子和自由基在內的混合體。放電過程中雖然電子溫度很高,但重粒子溫度很低,整個體系呈現(xiàn)低溫狀態(tài),所以稱為低溫等離子體。低溫等離子體降解污染物是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用,使污染物分子在極短的時間內發(fā)生分解,并發(fā)生后續(xù)的各種反應以達到降解污染物的目的。 光氧廢氣處理設備 特點:① 采用單級或多級串聯(lián)洗滌,對污染物去除徹底,去除效率高。② 處理高濃度惡臭廢氣具有明顯優(yōu)勢,運行穩(wěn)定。③ 具有啟動速度快、可間歇運行、耐沖擊負荷強、受溫度影響小、運行穩(wěn)定等特點。④ 自動化程度高,占地面積小,化學洗滌除臭設備適用于污水處理廠、制藥廠、化工廠等具有堿性或酸性且濃度比較高的尾氣治理?;钚蕴砍粼O備采取切線出風、環(huán)狀過濾、中間進風、上不加料、下部卸料的結構,克服了傳統(tǒng)的活性炭過濾器過濾阻力大、面積小、占地面積大、設備投資高、更換活性炭困難等缺陷,使活性炭過濾設備結構設計近乎于完美。
光催化是常溫深度反應技術。光催化氧化可在室溫下將水、空氣和土壤中有機污染物完全氧化成無害的產(chǎn)物,而傳統(tǒng)的高溫焚燒技術則需要在極高的溫度下才可將污染物摧毀,即使用常規(guī)的催化、氧化方法亦需要高溫,燃燒法用于處理高濃度Voc與有惡臭的化合物很有效,其原理是用過量的空氣使這些雜質燃燒,大多數(shù)生成二氧化碳和水蒸氣,可以排放到大氣中。但當處理含氯和含硫的有機化合物時,燃燒生成產(chǎn)物中HCl或SO2,需要對燃燒后氣體進一步處理設備。 從理論上講,只要半導體吸收的光能不小于其帶隙能,就足以激發(fā)產(chǎn)生電子和空穴,該半導體就有可能用作光催化劑,常見的單一化合物光催化劑多為金屬氧化物或硫化物,如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。這些催化劑各自對特定反應有突出優(yōu)點,具體研究中可根據(jù)需要選用,如CdS半導體帶隙能較小,跟太陽光譜中的近紫外光段有較好的匹配性能,可以很好地利用自然光能,但它容易發(fā)生光腐蝕,使用壽命有限。相對而言,Ti02的綜合性能較好,是廣泛使用和研究的單一化合物光催化劑。
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