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真空滅弧室
按照開關(guān)型式不同有外屏蔽罩式陶瓷真空滅弧室、中間封接杯狀縱磁場小型化真空滅弧室、內(nèi)封接式玻璃泡滅弧室，其基本結(jié)構(gòu)如下：
①氣密絕緣系統(tǒng)(外殼)
由陶瓷、玻璃或微晶玻璃制成的氣密絕緣筒、動端蓋板、定端蓋板、不銹鋼波紋管組成的氣密絕緣系統(tǒng)是一個真空密閉容器。為了保證氣密性，除了在封接式要有嚴(yán)格的操作工藝，還要求材料本身透氣性和內(nèi)部放氣量小。
②導(dǎo)電系統(tǒng)
由定導(dǎo)電桿、定跑弧面、定觸頭、動觸頭、動跑弧面、動導(dǎo)電桿構(gòu)成。觸頭結(jié)構(gòu)大致有三種：圓柱形觸頭、帶有螺旋槽跑弧面的橫向磁場觸頭、縱向磁場觸頭。目前采用縱磁場技術(shù)，此種滅弧室具有強而穩(wěn)定的電弧開斷能力。
③屏蔽系統(tǒng)
屏蔽罩是真空滅弧室中不可缺少的元件，并且有圍繞觸頭的主屏蔽罩、波紋管屏蔽罩和均壓用屏蔽罩等多種。主屏蔽罩的作用是：a防止燃弧過程中電弧生成物噴濺到絕緣外殼的內(nèi)壁，從而降低外殼的絕緣強度。b改善滅弧室內(nèi)部電場分布的均勻性，有利于降低局部場強，促進(jìn)真空滅弧室小型化。c冷凝電弧生成物，吸收一部分電弧能量，有助于弧后間隙介質(zhì)強度的恢復(fù)。
操作機構(gòu)
按照斷路器型式不同，采用的操作機構(gòu)不同。常用的操作機構(gòu)有彈簧操作機構(gòu)、CD10電磁操作機構(gòu)、CD17電磁操作機構(gòu)、CT19彈簧儲能操作機構(gòu)、CT8彈簧儲能操作機構(gòu)。
其它部件
基座、絕緣支撐件、絕緣子等
發(fā)展簡史
播報
編輯
1893年，美國的里頓豪斯提出了結(jié)構(gòu)簡單的真空滅弧室，并獲得了設(shè)計專利。1920年瑞典佛加公司次制成了真空開關(guān)。1926年等公布的研究成果也顯示了在真空中分?jǐn)嚯娏鞯目赡苄?，但因分?jǐn)嗄芰π。质艿秸婵占夹g(shù)和真空材料發(fā)展水平的限制，尚不能投入實際使用。隨著真空技術(shù)的發(fā)展，50年代美國才制成批適用于切斷電容器組等特殊要求的真空開關(guān),分?jǐn)嚯娏魃型Ｔ?千安的水平。由于真空材料冶煉技術(shù)上的進(jìn)步和真空開關(guān)觸頭結(jié)構(gòu)研究上所取得的突破，1961年，開始生產(chǎn)15千伏、分?jǐn)嚯娏鳛?2.5千安的真空斷路器。1966年試制成15千伏、26千安和31.5千安的真空斷路器，從而使真空斷路器進(jìn)入了高電壓、大容量的電力系統(tǒng)。80年代中期，真空斷路器的分?jǐn)嗄芰σ堰_(dá)100千安。中國從1958年開始研制真空開關(guān)，1960年西安交通大學(xué)和西安開關(guān)整流器廠共同研制成批6.7千伏、分?jǐn)嗄芰?00安的真空開關(guān);隨后又制成10千伏、分?jǐn)嗄芰?.5千安的三相真空開關(guān)。1969年華光電子管廠和西安
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分閘失靈
2.1故障現(xiàn)象
根據(jù)故障原因的不同，存在如下故障現(xiàn)象：
(1)斷路器遠(yuǎn)方遙控分閘分不下來；
(2)就地手動分閘分不下來；
(3)事故時繼電保護(hù)動作，但斷路器分不下來。
2.2原因分析
(1)分閘操作回路斷線；
(2)分閘線圈斷線；
(3)操作電源電壓降低；
(4)分閘線圈電阻增加，分閘力降低；
(5)分閘頂桿變形，分閘時存在卡澀現(xiàn)象，分閘力降低；
(6)分閘頂桿變形嚴(yán)重，分閘時卡死。
2.3故障危害
如果分閘失靈發(fā)生在事故時，將會導(dǎo)致事故越級，擴大事故范圍。
2.4處理方法
(1)檢查分閘回路是否斷線；
(2)檢查分閘線圈是否斷線；
(3)測量分閘線圈電阻值是否合格；
(4)檢查分閘頂桿是否變形；
(5)檢查操作電壓是否正常；
(6)改銅質(zhì)分閘頂桿為鋼質(zhì)，以避免變形。
2.5措施
運行人員若發(fā)現(xiàn)分合閘指示燈不亮，應(yīng)及時檢查分合閘回路是否斷線；檢修人員在停電檢修時應(yīng)注意測量分閘線圈的電阻，檢查分閘頂桿是否變形；如果分閘頂桿的材質(zhì)為銅質(zhì)應(yīng)更換為鋼質(zhì)；必須進(jìn)行低電壓分合閘試驗，以保證斷路器性能可靠。
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