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ASML是先的半導(dǎo)體設(shè)備廠商，隨著工藝技術(shù)不斷縮，三星在16日宣布5nm極紫外光（EUV）制程開(kāi)發(fā)成功，并傳今年將量產(chǎn)6nm，臺(tái)積電傍晚也宣布推出6nm(N6)制程技術(shù)，并預(yù)計(jì)2020年一季度進(jìn)入試產(chǎn)。DRAM也即將進(jìn)入1znm，三星已成功研發(fā)出1znm DRAM，并預(yù)計(jì)于2019 年下半年開(kāi)始大量生產(chǎn)，DRAM進(jìn)入1znm節(jié)點(diǎn)將需要更精密的EUV設(shè)備延續(xù)摩爾定律，這離不開(kāi)對(duì)ASML EUV設(shè)備的需求。
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這不僅意味著安森美將得到300mm晶圓制造和研發(fā)專業(yè)團(tuán)隊(duì)，協(xié)助將其晶圓制程由200mm升級(jí)成300mm。同時(shí)，安森美也能立即獲得高階CMOS產(chǎn)品制造能力，包含45nm和65nm的制程技術(shù)，這些制程技術(shù)將奠定安森美未來(lái)的技術(shù)研發(fā)基礎(chǔ)。
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在多年的 EMMC生產(chǎn)經(jīng)營(yíng)實(shí)踐中，我們公司逐漸形成了“誠(chéng)信為本、關(guān)注用戶、促進(jìn)雙贏”的經(jīng)營(yíng)理念。在這一理念的指導(dǎo)下，我們把“為用戶提供優(yōu)質(zhì) EMMC產(chǎn)品與服務(wù)，不斷提高用戶滿意度”做為公司的追求目標(biāo)，為了接近和實(shí)現(xiàn)這一目標(biāo)，誠(chéng)信回收庫(kù)存電子(葫蘆島市分公司)上下傾注了全部心血和精力，積j i在提高 EMMC生產(chǎn)技術(shù)， EMMC產(chǎn)品檔次，改善 EMMC產(chǎn)品質(zhì)量，降低 EMMC產(chǎn)品成本等方面，進(jìn)行著不懈的努力，收到了良好的成果。
