用于鑄模,鍍鎳,鍍鉻,鍍銀和鍍金的打底,修復磨損部分,防止局部滲碳和提高導電性。分為堿性鍍銅和酸性鍍銅二法。通常為了獲得較薄的細致光滑的銅鍍層,將表面除去油銹的鋼鐵等制件作陰極,純銅板作陽極,掛于含有氰化亞銅、 和碳酸鈉等成分的堿性電鍍液中,進行堿性( )鍍銅。為了獲得較厚的銅鍍層,必須先將鍍件進行堿性鍍銅,再置于含有硫酸銅、硫酸鎳和硫酸等成分的電解液中,進行酸性鍍銅。此外,還有焦磷酸鹽、酒石酸鹽、乙二胺等配制的無氰電解液。焦磷酸鹽電解液已被廣泛采用。
陰極表面溶液濃度漸稀的異常液膜稱為陰極膜(Cathode Pilm)或擴散層(Diffusion Layer),系指原始銅濃度Cu++重量比下降l%起(99%)到陰極的0%為止的薄液層而言。原本水分子與銅離子所組成的陰極膜,其各處膜厚并不均勻,加入載運劑后此薄膜即將變?yōu)楹穸仍黾忧揖鶆蛐愿玫囊耗?,使得鍍銅層厚度也漸趨均勻。本劑可采CVS或HPLC進行分析。
實用電鍍銅槽液中其實早已加入許多有機添加劑,使得簡單銅離子(Cu++)的四周,會自動吸附了許多臨時配位的有機物,因而帶正電性往陰極泳動較大型的銅游(離)了團,其于極面進行反應(yīng)所需要的外電壓,自必會比簡單離子要高一些。于是其超電壓或極化情形又會增多了一些。一般電鍍業(yè)者的"極化"觀念,多半是著眼在加入有機助劑后,針對原始配方在反應(yīng)中所超出的電位,或所增加的極化而言。
永發(fā)鋼鐵貿(mào)易(郴州市分公司)多年來始終堅持“誠信為本,質(zhì)量保證,客戶至上”的服務(wù)理念,為廣大客戶和消費者服務(wù),本公司一貫奉行以質(zhì)量求生產(chǎn),以質(zhì)量求發(fā)展,對 日標鍍鋅槽鋼產(chǎn)品精益求精,以優(yōu)質(zhì)的 日標鍍鋅槽鋼產(chǎn)品供給客戶,服務(wù)至上,價格合理,而受到廣大客戶的贊譽,歡迎廣大客戶來廠實地考察洽談。
石油化工、儲油庫、發(fā)電廠、變電站、通訊基站、機場、網(wǎng)絡(luò)機房、鐵路、地鐵等場所的防雷接地工程。
鍍銅工藝目前生產(chǎn)上應(yīng)用較多的有三個氰化鍍銅、硫酸鹽鍍銅、焦磷酸鹽鍍銅幾種工藝。能完全取代傳統(tǒng)氰化鍍銅工藝和光亮鍍銅工藝,適用于任何金屬基材:純銅丶銅合金丶鐵丶不銹鋼丶鋅合金壓鑄件、鋁丶鋁合金工件等基材上,掛鍍或滾鍍均可。
處理方法:合理選擇、使用光澤劑
2)陰極表面黏附著導電的粒
a.氯化物含量過多。當鍍液中氯離子含量過多時,與Cu形成氯化亞銅沉淀,沉積在陰極表面上形成毛刺
b.鍍液中鐵離子含量過高,形成硫酸鐵沉淀,在陰極表面上是鍍層產(chǎn)生毛刺
c.鍍液中含有銻和砷與銅共沉積產(chǎn)生毛刺
處理方法: a.連續(xù)循環(huán)過濾鍍液,并保證過濾量(每小時2 ~ 5倍槽體積);
b.定期分析并及時調(diào)整鍍液成分,使溶液具有良好的導電性能;
c.采用小電流電解(0.1 ~ 0.3A/dm),除去銻和砷雜質(zhì)
壓起步階段中其電流增加得十分緩慢,故不利于量產(chǎn)。
1.一直到達某個電壓階段時電流才會快速增加,此段陡翹曲線的領(lǐng)域,正是一般電鍍量產(chǎn)的操作范圍。
2.曲線到了高原后,即使再逐漸增加電壓,但電流的上升卻是極不明顯。此時已到達正常電鍍其電流密度的極限(1lim)。
此時若再繼續(xù)增加電壓而迫使電流超出其極限時,則鍍層結(jié)晶會變粗甚至成瘤或粉化,并產(chǎn)生大量的氫氣。此一階段所形成之劣質(zhì)鍍層當然是無法受用的,但銅箔毛面棱線上的銅瘤,卻是刻意超出極限之制作,而強化抓地力的意外用途。
以下即為陰極待鍍件在其極電流強(Ilim)與電流密度(Jlim)的公式與說明,后者尤其常見于各種有關(guān)電鍍的文章中。
● 被鍍件之極限電流強度為(單位是安培A):
Ilim=
● 被鍍件之極限電密度為(單位是ASF;A/fi2或ASD;A*/dm2)
J lim=
● 超過極限電流之電鍍層,由于沉積與堆積太快的作用下,將使得結(jié)晶粗糙不堪,形成瘤狀或粉狀外表無光澤之劣質(zhì)鍍層,常呈現(xiàn)灰白狀或暗色之外觀,故稱之為燒焦(Burning)。ED銅皮其粗面上之銅瘤卻為刻意超過極限電流而產(chǎn)生者。
● 各種攬拌(吹氣、過續(xù)循環(huán)、陰極擺動等)之目的均在逼薄陰極膜(使δ變小)減少濃差極化,并增加其可用之電流極限。且主槽液濃度(Cb)與擴散系數(shù)(D)的增大也有助于極限電流的,而增大電鍍之反應(yīng)范圍。
陰極膜與電雙層