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ASML是先的半導(dǎo)體設(shè)備廠商，隨著工藝技術(shù)不斷縮，三星在16日宣布5nm極紫外光（EUV）制程開發(fā)成功，并傳今年將量產(chǎn)6nm，臺(tái)積電傍晚也宣布推出6nm(N6)制程技術(shù)，并預(yù)計(jì)2020年一季度進(jìn)入試產(chǎn)。DRAM也即將進(jìn)入1znm，三星已成功研發(fā)出1znm DRAM，并預(yù)計(jì)于2019 年下半年開始大量生產(chǎn)，DRAM進(jìn)入1znm節(jié)點(diǎn)將需要更精密的EUV設(shè)備延續(xù)摩爾定律，這離不開對ASML EUV設(shè)備的需求。

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中國是一個(gè)電子產(chǎn)品消費(fèi)大國，大約占據(jù)30%左右的需求市場，然而中國核心芯片主要依賴于進(jìn)口，尤其在存儲(chǔ)芯片領(lǐng)域。隨著 政策的支持，除了國科，也越來越多的芯片設(shè)計(jì)公司前赴后繼的踏上自主技術(shù)創(chuàng)新的征途。

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