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OC廢氣處理設備從理論上講，只要半導體吸收的光能不小于其帶隙能，就足以激發(fā)產生電子和空穴，該半導體就有可能用作光催化劑,常見的單一化合物光催化劑多為金屬氧化物或硫化物，如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。這些催化劑各自對特定反應有突出優(yōu)點，具體研究中可根據需要選用，如CdS半導體帶隙能較小，跟太陽光譜中的近紫外光段有較好的匹配性能，可以很好地利用自然光能，但它容易發(fā)生光腐蝕，使用壽命有限。相對而言，Ti02的綜合性能較好，是廣泛使用和研究的單一化合物光催化劑。
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【設備環(huán)保噴漆房國標檢測放心購買】
催化燃燒廢氣處理設備系統(tǒng)特點： 1、催化燃燒采用RCO工藝凈化有機廢氣，可同時去除多種有機污染物，具有工藝簡單、設備緊湊、運行可靠等優(yōu)點； 2、催化燃燒設備具有凈化率高，一般均可達95%以上； 3、催化燃燒設備具有運行費用低的優(yōu)點，其熱回收率一般可達95%以上； 4、整個過程無廢水產生，凈化過程不產生二次污染； 5、催化燃燒RCO凈化設備可與烘箱配套使用，凈化后的氣體直接回用到烘箱加熱設備，達到節(jié)能減排的目的； 6、催化燃燒設有5道裝置，杜絕事故發(fā)生； 7、催化燃燒蓄熱系統(tǒng)采用加熱系統(tǒng)分段工作，自動跟蹤溫度并內置蓄熱裝置，節(jié)能省電；
催化燃燒廢氣處理設備。解吸后的吸收劑經過溶劑冷凝器冷凝后回到吸收塔。解吸出的VOCs氣體經過冷凝器、氣液分離器后以較純的VOCs氣體離開汽提塔，被回收利用。該工藝適合于VOCs濃度較高、溫度較低的氣體凈化，其他情況下需要作相應的工藝調整。 催化燃燒廢氣處理設備 根據狀態(tài)、溫度和離子密度，等離子體通常可以分為高溫等離子體和低溫等離子體（包子體和冷等離子體）。其中高溫等離子體的電離度接近1，各種粒子溫度幾乎相同系處于熱力學平衡狀態(tài)，它主要應用在受控熱核反應研究方面。而低溫等離子體則學非平衡狀態(tài)，各種粒子溫度并不相同。其中電子溫度( Te)≥離子溫度(Ti)，可達104K以上，而其離子和中性粒子的溫度卻可低到300～500K。一般氣體放電子體屬于低溫等離子體。
