活性炭除臭設備是等體積傳統(tǒng)活性炭過濾設備過濾面積的2~4倍，阻力只有傳統(tǒng)的1/2~1/3。環(huán)形活性炭凈化裝置由于采用切線出風，其方向不受場地條件限制可任意擺放，抽風機和設備對接極易，排放管可直接固定于設備上，系統(tǒng)整齊合理, 廢氣的產(chǎn)生部位比較多，并且分散在車間中，因此在處理廢氣之前必須先把廢氣收集起來，所以需要集氣系統(tǒng)對其進行收集后統(tǒng)一進行處理, 在車間機器產(chǎn)生廢氣的具體部位加上密閉系統(tǒng)，然后安裝相對應的管道，利用風機作用將廢氣抽出；另外，一方面在車間四周的地面部位安裝一定量的鼓風機，將車間內散布的廢氣由下而上鼓氣，另一方面在車間頂部安裝抽風機，使抽氣量大于鼓風量，從而車間內產(chǎn)生一定的低負壓，保證了車間內廢氣不會像外擴散。抽出的廢氣統(tǒng)一由管道外送進行處理。

光催化是常溫深度反應技術。光催化氧化可在室溫下將水、空氣和土壤中有機污染物完全氧化成無害的產(chǎn)物，而傳統(tǒng)的高溫焚燒技術則需要在極高的溫度下才可將污染物摧毀，即使用常規(guī)的催化、氧化方法亦需要高溫,燃燒法用于處理高濃度Voc與有惡臭的化合物很有效，其原理是用過量的空氣使這些雜質燃燒，大多數(shù)生成二氧化碳和水蒸氣，可以排放到大氣中。但當處理含氯和含硫的有機化合物時，燃燒生成產(chǎn)物中HCl或SO2，需要對燃燒后氣體進一步處理設備。 從理論上講，只要半導體吸收的光能不小于其帶隙能，就足以激發(fā)產(chǎn)生電子和空穴，該半導體就有可能用作光催化劑,常見的單一化合物光催化劑多為金屬氧化物或硫化物，如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。這些催化劑各自對特定反應有突出優(yōu)點，具體研究中可根據(jù)需要選用，如CdS半導體帶隙能較小，跟太陽光譜中的近紫外光段有較好的匹配性能，可以很好地利用自然光能，但它容易發(fā)生光腐蝕，使用壽命有限。相對而言，Ti02的綜合性能較好，是廣泛使用和研究的單一化合物光催化劑。